Chemische peeling

Vaak vragen patiënten naar een operatieve oplossing voor huidrimpels in het gelaat en/of de hals. Hoewel er een aantal operatieve procedures bestaan die bijdragen aan een mooi huidresultaat, moeten we toegeven dat we rimpels niet kunnen weghalen door te opereren. Voor een optimaal resultaat pakken wij het probleem daarom aan bij de kern. In het geval van gevorderde rimpelvorming betekent dit: huidverbetering!

Bij een chemische peeling wordt een product (meestal een soort zuur) aangebracht op de huid, waardoor er zich een chemisch proces in de huid afspeelt. Dankzij deze chemische reactie verbeteren verschillende huidproblemen, zoals acnelittekens, pigmentproblemen en tekenen van huidveroudering zoals rimpels.

Er bestaan verschillende soorten dermale peelings, elk met hun eigen voor- en nadelen. De peelings worden vaak ingedeeld volgens hun dieptewerking. Hoe dieper de peeling, hoe groter het effect, maar ook hoe langer de huid moet herstellen. De risico’s nemen dus toe naarmate de peeling dieper gaat. Een goede voorbereiding van de huid is daarom cruciaal.

• Oppervlakkige peelings, zoals een fruitzuurpeeling, frissen de huid op, maar hebben geen uitgesproken effect op diepere rimpels.
• Medium dieptepeelings dringen dieper door in de huid en hebben een beter effect op pigment, fijne lijntjes en huidstructuur.
• Diepe peelings kunnen krachtige resultaten opleveren bij gevorderde rimpels en zonneschade. Ze verbeteren de huidkwaliteit zichtbaar en zorgen voor een frissere, gladdere en meer egale uitstraling.

Een medium tot diepe chemische peeling biedt een intensieve vorm van huidverbetering. De behandeling werkt in op diepere huidstructuren, waardoor blijvende verbetering kan optreden bij zonbeschadigde huid en diepere huidrimpels.

• Structuuronregelmatigheden
• Dofheid van de huid
• Pigmentproblemen
• Leeftijdsgebonden zonnevlekken
• Zonneschade
• Rimpels

Een dermale chemische peeling is maatwerk. De kostprijs is dan ook sterk afhankelijk van het type van peeling en van de indicatiestelling.